Lapping Finmaling Fluid

Lapping Finmaling Fluid

Hög-polering uppnås genom enhetligt spridd kolloidal kiseldioxid och andra partiklar med stora-partiklar. Formeln med låg-orenhet och hög-renhet minskar effektivt bearbetningsföroreningar. Kolloidala partiklar agerar flexibelt för att undvika fysisk skada på arbetsstycken, balanserar poleringseffektivitet och bearbetningsprecision.
Skicka förfrågan
produkt introduktion

Dongguan Xindingsheng Intelligent Grinding Technology Co., Ltd. är en av de ledande tillverkarna och leverantörerna av finslipvätska i Kina, med kvalitetsprodukter och bra priser. Du kan vara säker på att grossistförsälja skräddarsydd finmalningsvätska från vår fabrik. För offert, kontakta oss nu.

 

Lapping Finmaling Fluid

 

Kärnfunktioner

 

1.Brett anpassningsförmåga: Speciellt utformad för hög-slipmaskiner, även tillämpbar på vanliga slipmaskiner och centerlösa slipmaskiner
2.Nitrit-fri och mineralolja-fri, lätt att använda; Förbättrar arbetsstyckets ytfinish, minskar slitage, ökar slipeffektiviteten och har utmärkt miljöprestanda
3.Hög stabilitet med enastående processrostbeständighet, icke-luktande och lämplig för lång-användning
4.Hög poleringseffektivitet och ultra-hög renhet (föroreningar Mindre än eller lika med 50 ppb); Kolloidala partiklar orsakar inga skador på arbetsstycket och säkerställer hög-bearbetningskvalitet

Lapping Fine Grinding Fluid

 

Tekniska parametrar

 

Punkt

Specifikation

Utseende

Mjölkvit trögflytande vätska

Densitet

1.20 ± 0.02

Solid innehåll

40.0 ± 1.0%

Aktivt innehåll

Mindre än eller lika med 40 %

pH-värde

8.0 ± 1.0

Genomsnittlig primär partikelstorlek

30 - 100 nm

 

Produktprincip

 

Hög-polering uppnås genom enhetligt spridd kolloidal kiseldioxid och andra partiklar med stora-partiklar. Formeln med låg-orenhet och hög-renhet minskar effektivt bearbetningsföroreningar. Kolloidala partiklar agerar flexibelt för att undvika fysisk skada på arbetsstycken, balanserar poleringseffektivitet och bearbetningsprecision.

 

Tillämpningsomfång

 

Används i stor utsträckning vid kemisk-mekanisk polering på nano-nivå (CMP) av olika material, inklusive kiselskivor, sammansatta kristaller, optiska precisionskomponenter, hårddiskplattor, mobiltelefontillbehör, datortillbehör, bildskärmar och andra produkter.

 

Användningsanteckningar

 

1. Produkten kan tjockna eller till och med förvandlas till ett fruset tillstånd efter lång-förvaring. Späd den med vatten i förhållandet 1:1 (vätska till vatten) och rör om jämnt före användning.
2. Var uppmärksam på systemets viskositet när du lägger till produkten för att undvika åter-flockning orsakad av för låg substratviskositet och otillräcklig skjuvhastighet.

 

Populära Taggar: lapping fin slipvätska, Kina lapping fin slipvätska tillverkare, leverantörer, Slipmedel, Diamantpoleringsvätska, Platt lappningspasta, Lappning av finslipningsvätska, Slipningsmedium malvätska, Safirpoleringsvätska

Skicka förfrågan

whatsapp

Telefon

E-post

Förfrågning